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深冷回火一體爐內(nèi)對材料熱處理的保護作用

更新時間:2020-01-06  點擊次數(shù): 1704次
  對于很多材料在深冷回火一體爐內(nèi)加熱除了要生成氧化物、氫化物、氮化物外,非該設(shè)備中加熱的材料還會吸收氣體并向內(nèi)部擴散,使材料的性能嚴重惡化。這些氧化、還原、脫碳、增碳、吸氣甚至產(chǎn)生腐蝕等弊病,有時在可控氣氛爐或者鹽浴爐中也難以避免,而真空熱處理爐可以在很多時候避免這些弊病。真空熱處理實質(zhì)上是在極稀薄的該設(shè)備氣氛中進行熱處理,該設(shè)備內(nèi)氣體分析表明,爐內(nèi)殘存的氣體是H2Q、O2、CO2以及油脂等有機物蒸汽。深冷回火一體爐內(nèi)由于這些氣體的含量非常少,其分壓力很低,不足以使被處理的材料產(chǎn)生氧化、還原、脫碳、增碳等反應(yīng),所以材料表面的化學(xué)成分和原來的表面光亮度可保持不變。深冷回火一體爐內(nèi)高真空有兩個特點:
  1、高真空氣氛的化學(xué)活性極低,因此,利用該設(shè)備進行熱處理爐時,氣相與固相界面上發(fā)生的反應(yīng),如氧化、還原、脫碳、增碳等,不會進行到有影響的程度;
  2、該設(shè)備內(nèi)的高真空氣氛使氣體體積增大的變化非常迅速,可使材料放出溶解的氣體或者氧化物發(fā)生分解。正是由于該設(shè)備內(nèi)高真空氣氛的這兩個特點,在該設(shè)備高真空氣氛中,氧分壓很低,氧化作用被抑制。因此,為了達到無氧化的目的,必須是該設(shè)備內(nèi)氧的分壓力低于氧化物的分解壓力。
  當爐內(nèi)有大量碳黑沉積時,會破壞爐內(nèi)的滲碳反應(yīng)過程,影響碳勢控制穩(wěn)定性,影響加熱元件的熱傳遞,降低爐內(nèi)構(gòu)件的使用壽命。爐內(nèi)出現(xiàn)較多積碳時應(yīng)及時燒掉,建議三周左右燒一次碳黑,如果積碳黑速度較快,應(yīng)適當縮短燒碳黑的周期。
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